半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
好项目题材
该中小企业专业的分娩半导体设备用高纯氟化氢和六氟化钨,废液氟盐浓度极低且成分表冗杂。增加了治工院艺实际效果不安全,氟化物产生隔三差五超量。的项目注资2300万元施工专程治理公共设施,设计治理特性500吨/天。
污水成分表及从何而来
废污水常见出于制造仪器清洁工作和气体干洗:
氟化合物有机废气浓度:1500-3500mg/L
含硫酸钠根亚铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等金属制稀土元素
工作生产技术工作流程
对於濃度值共同点,适用"采和+三级沉淀物中+膜整理"方法:
废污水采集而来池:划分类别采集而来其他质量浓度废污水
结合反映池:分时间段添加氢脱色钠和氢脱色钙,管理最后pH至7.5-8.
二沉池反應池:加药系统PAC和PAM增加石雕文化沉淀成果
斜管滤渣池:有效固液分離
多物料滤水器:清掉这些细微颗粒肥料
反固化系統:进一步脱盐和除氟
活性活性污泥浓缩液脱干处理系统:离心式脱干处理后活性活性污泥建筑垃圾清运专业性外理
网络监控录像控制系统:时时监控录像氟阴阳离子溶液浓度和pH值
终究治疗效果
办理系統使用数据表格:
手表进水氟正离子年均溶液浓度:2800mg/L
出水出水氟铁离子含量:3.2mg/L(分別)
氟避开率:99.9%上面的
水回收率:符合65%
软件自行化水平高,实行工业废水治理 生产成本降底30%,年收回氟化钙副厂品约400吨。